2012年環(huán)評(píng)師考試案例分析講義精華56

    一、項(xiàng)目工程概況與工程分析

    （一）項(xiàng)目背景

    本項(xiàng)目擬建于北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi)。擬建設(shè)8英寸（20.32cra）0.35～0.18gm芯片（月投片30000片）；12英寸（30.48cm）先進(jìn)制程線，0.13-0.09gm芯片（月投產(chǎn)3000片）。本項(xiàng)目建設(shè)期2年（2002-2003年，實(shí)際1.25年），試生產(chǎn)期2年，達(dá)產(chǎn)期4年，總投資為12.5億美元。

    （二）項(xiàng)目概況

    1.項(xiàng)目組成

    本項(xiàng)目由生產(chǎn)設(shè)施、動(dòng)力設(shè)施、化學(xué)品設(shè)施、氣體設(shè)施、環(huán)保設(shè)施、安全衛(wèi)生設(shè)施、消防設(shè)施、管理服務(wù)設(shè)施以及相應(yīng)的建筑物組成。芯片項(xiàng)目組成見表1.

    2. 總平面布置

    廠區(qū)總平面效果見圖1.

    二，環(huán)境概況

    1.地理位置

    廠址位于北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)（BDA）41、47號(hào)地塊，征地面積240030m2，其中41號(hào)地塊面積136754m2、47號(hào)地塊面積103 276m'，見圖2.

    2.環(huán)境質(zhì)量

    本項(xiàng)目對(duì)芯片加工類的特征空氣污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物進(jìn)行了監(jiān)測(cè)。環(huán)境空氣監(jiān)測(cè)了氟化物、氯化氫、氨氣、氯氣、硫酸霧、非甲烷總烴共6項(xiàng)；地下水環(huán)境監(jiān)測(cè)，W、B共2項(xiàng)；土壤監(jiān)測(cè)了砷（As）、硼（B）、氟（F）和鎢（W）共4項(xiàng)。通過監(jiān)測(cè)結(jié)果可以看出環(huán)境本底較好，沒有超標(biāo)的污染項(xiàng)。

    3.廠址選擇合理性分析

    由于中國與發(fā)達(dá)國家相比，在關(guān)鍵技術(shù)如軟件、集成電路和新型元器件等方面相對(duì)落后，CPU芯片和存儲(chǔ)器的設(shè)計(jì)與制造能力薄弱，電訊、通訊市場(chǎng)將是首先受到入關(guān)沖擊的領(lǐng)域之一。因此，我國的信息產(chǎn)業(yè)政策中有很重要的一條，就是中國鼓勵(lì)外資進(jìn)入信息產(chǎn)業(yè)，希望信息產(chǎn)業(yè)的外商投資企業(yè)進(jìn)一步提高技術(shù)檔次，擴(kuò)大投資規(guī)模。深亞微米工藝技術(shù)已是國際上的主流生產(chǎn)技術(shù)，本項(xiàng)目的實(shí)施可以推廣在國內(nèi)微電子技術(shù)的升級(jí)發(fā)展，提高電子產(chǎn)品開發(fā)、生產(chǎn)，并會(huì)促進(jìn)我國集成電路產(chǎn)業(yè)走向國際。因此，該項(xiàng)目的性質(zhì)完全符合國家信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃和政策。本項(xiàng)目為高科技、高附加值的集成電路行業(yè)，項(xiàng)目地址位于北京市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi)。在北京市"十五"時(shí)期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的產(chǎn)業(yè)布局調(diào)整目標(biāo)中明確指出："北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)：建設(shè)成北京現(xiàn)代制造業(yè)的窗口基地"，該項(xiàng)目的選址符合北京市"十五"時(shí)期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的產(chǎn)業(yè)布局，與加速發(fā)展高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展方向高度是一致的。根據(jù)本項(xiàng)目的規(guī)模，可以確信，本項(xiàng)目是實(shí)現(xiàn)北京市"十五"時(shí)期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的極其重要的項(xiàng)目之一。