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浙江理工大學學術型碩士《半導體物理》2011年考研大綱

來源:網(wǎng)絡 時間:2010-09-15 09:08:58

  考試科目:半導體物理 代碼: 928 
  一、主要參考書:《半導體物理學》,劉恩科等編著(第6版),電子工業(yè)出版社
  二、考試大綱:
  第一章 半導體中的電子狀態(tài)
  半導體的晶格結構和結合性質(zhì),半導體的電子狀態(tài)和能帶,半導體中的電子運動,有效質(zhì)量的概念,本征半導體的導電機構,空穴的概念,回旋共振,硅、鍺的能帶結構。
  第二章 半導體中雜質(zhì)和缺陷能級
  硅、鍺晶體及III-V族化合物中的雜質(zhì)能級,缺陷、位錯能級。
  第三章 半導體中載流子的統(tǒng)計分布
  狀態(tài)密度,費米能級和載流子的統(tǒng)計分布,本征半導體載流子濃度,雜質(zhì)半導體載流子濃度,一般情況下的載流子統(tǒng)計分布,簡并半導體。
  第四章 半導體的導電性
  載流子的漂移運動和遷移率,載流子散射,遷移率與雜質(zhì)濃度和溫度的關系,波爾茲曼方程、電導率的統(tǒng)計理論,強電場下的效應,多能谷散射。
  第五章 非平衡載流子
  非平衡載流子注入與復合,非平衡載流子的壽命,準費米能級,復合理論,陷阱效應,載流子的擴散運動與漂移運動,愛恩斯坦關系式,連續(xù)性方程。
  第六章 pn結
  pn結的能帶圖,pn結電流電壓特性,pn結電容,pn結擊穿,pn結隧道效應。
  第七章 金屬和半導體的接觸,半導體表面與MIS結構
  金屬和半導體的接觸及其能級圖,金屬半導體接觸整流理論,少數(shù)載流子的注入和歐姆接觸。表面態(tài),表面電場效應,MIS結構的電容-電壓特性,硅-二氧化硅系統(tǒng)的性質(zhì),表面電導及遷移率,表面電場對pn結特性的影響。
  第八章 半導體的光電、熱電、磁電和壓阻效應,半導體異質(zhì)結構
  半導體的光吸收、光導電、光生伏特效應,半導體發(fā)光、激光。半導體熱傳導,熱導率,溫差電效應,溫差電動勢率,塞貝克效應,溫差電偶,帕爾貼效應,湯姆遜效應,霍爾效應,磁阻效應,光磁電效應,壓阻效應,異質(zhì)結。
  三、題型比例:
  名詞解釋 30%左右
  選 擇 題 20%左右
  問答和計算題 50%左右

結束

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